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多晶硅是太阳能光伏产业的基础材料．制备多晶硅必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）是一种可燃，易与水反应的气体，当前制备高纯硅的主要方法是在一定条件下以三氯甲硅烷为原料化学

SiH2Cl2 SiH

2010年7月28日，永吉新亚强化工厂1000多只装有三甲基一氯硅烷原料桶被洪水冲入松花江，吉林省迅速在沿途设置八道防线拦截，遗失物料桶全部被打捞并被妥善存放．（1）硅烷分子式为SiH4，其他

（2）专业人员处理泄漏的少量

按要求填空（1）甲烷与氯气在光照下反应生成三氯甲烷的化学方程式，反应类型：；（2）的系统命名为；．（3）氮化硅（Si3N4）是一种新型的耐高温耐磨材料，在工业上有广泛用途化学

磷 ⑦16O

三甲基氯硅烷的用途及性能化学

硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图1：（1）第①步制备粗硅的化学方程化学

2反应制备纯硅的装置如图2所

请回答下列问题:（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:①写出由纯制备高纯硅的化学方程式: 化学

制无水无氧。遇水剧烈反应

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：（1）写出由化学

l3+H2 高温 . Si+

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：化学

______________

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图：石英砂化学

高温粗

制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：（1）写出由石英砂制取粗硅的化学方程式化学

纯SiHCl3制备高纯硅的化

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