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（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度其他

______；（2）对反应2

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