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半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略化学

水会强烈水解生成H3PO3和

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所化学

①黄磷与少量Cl

半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略化学

会强烈水解生成 H3PO3

三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如图所示：（部分夹持装置略去）已知：①黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反化学

O2会生成POCl3，POC

三氯化磷（PCl3）是一种重要的半导体材料掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3，装置如下图所示．已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5．PCl3 化学

水解生成H3PO3和HCl．

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