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聚乙烯醇肉桂酸酯
(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层,其合成路线如图:已知:请回答:(1)C的化学名称为;M中含氧官能团的名称为.(2)F-G的反应类型为;检验产物G中新生成
化学
式为___;H的顺式结构简式
聚乙烯醇肉桂酸酯
(A)可用于光刻工艺中做抗腐蚀涂层。下面是一种合成该有机物的路线:已知:请回答:(1)CH3COOH中的含氧官能团的名称为;其电离方程式是。(2
化学
(3)反应②
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