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共找到 1 与被广泛应用于集成电路生产领域．其制备反应原理为 相关的结果，耗时26 ms
氮化铝是一种新型的无机非金属材料，
被广泛应用于集成电路生产领域．其制备反应原理为
：Al2O3+N2+3C═2AlN+3CO．制备过程中，原料配比不当或反应不完全等因素都会造成产品中含有碳或Al2O3
化学
选用的化学试剂为：mg氮化铝
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