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共找到 9 与还原法是当前制备高纯硅的主要方法 相关的结果，耗时95 ms
硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如图1：（1）第①步制备粗硅的化学方程
化学
2反应制备纯硅的装置如图2所
请回答下列问题:（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
,生产过程示意图如下:①写出由纯制备高纯硅的化学方程式:
化学
制无水无氧。 遇水剧烈反应
硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如图所示：（1）写出由
化学
l3+H2 高温 . Si+
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如下：
化学
______________
硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如图：石英砂
化学
高温 粗
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如下：（1）写出由石英砂制取粗硅的化学方程式
化学
纯SiHCl3制备高纯硅的化
请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
，生产过程示意图如下：①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式：SiH
化学
i+3HCl．②整个制备过程
三氯甲硅烷（SiHCl3）
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
．生产流程示意图如下：（1）SiO2与碳反应生成碳的低价化合物，其方程式为2C+SiO2高温.Si+2CO↑2C+SiO2高温.Si+2CO↑（2）上述生产流
化学
___（3）上述4步中，是氧
太阳能光伏发电最关键材料是高纯硅.三氯钾硅烷(SiHCl3)
还原法是当前制备高纯硅的主要方法
.生产流程示意图如下石英纱+焦炭+高温→粗硅+HCL+高温→SiHCl3(粗)+精馏→SiHCl3(纯)+H2+高温→高纯硅(
化学
的一种形式.通过蒸馏可以把液
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