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（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度
其他
______；（2）对反应2
在一个标准大气压下，水在沸腾时，1g水由液态变成同温度的气态，其体积膨胀，膨胀过程气体对外界做的功W为169.7J．已知水的汽化热为2263.
8J/g
，试求：（1）气体吸收的热量Q为多少；（2）
物理
电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的
化学
求此反应自发进行的温度条件。
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