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共找到 1 与A．SiFB．HFO2C．SiF4D．H2SiO3 相关的结果，耗时38 ms
氢氟酸（HF）可用来在玻璃（主要成分：SiO2）上雕刻各种精美图案，雕刻过程中发生的反应为4HF+SiO2=R↑+2H2O，则R的化学式为（）
A．SiFB．HFO2C．SiF4D．H2SiO3
化学
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