光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：已知：Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）Ⅱ．（R，R′为烃基）（1）A分子中含氧官能团名称为．（2）羧酸X的电

Question

光刻胶是一种应用广泛的光敏材料，其合成路线如下（部分试剂和产物略去）：

已知：
Ⅰ．（R，R′为烃基或氢）
Ⅱ． （R，R′为烃基）
（1）A分子中含氧官能团名称为______．
（2）羧酸X的电离方程式为______．
（3）C物质可发生的反应类型为______（填字母序号）．
a．加聚反应    b．酯化反应   c．还原反应    d．缩聚反应
（4）B与Ag（NH₃）₂OH反应的化学方程式为______．
（5）乙炔和羧酸X加成生成E，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，则E的结构简式为______．
（6）与C具有相同官能团且含有苯环的同分异构体有4种，其结构简式分别为
、、______和______．
（7）D和G反应生成光刻胶的化学方程式为______．

Answer 1

由D的结构可知，A中含有苯环，A与CH₃CHO反应得到B，由物质的分子式及信息Ⅰ，可推知A为，B为，B与银氨溶液发生氧化反应、酸化得到C，则C为．乙炔和羧酸X加成生成E，E发生加聚反应得到F，则E分子中含有C=C双键，结合分子式可知，X为CH₃COOH，E的核磁共振氢谱为三组峰，且峰面积比为3：2：1，E能发生水解反应，故E为CH₃COOCH=CH₂，F为，G与D发生信息Ⅱ的反应得到光刻胶，则光刻胶的结构简式为：，
（1）A为，分子中含氧官能团名称为：醛基，
故答案为：醛基；
（2）X为CH₃COOH，属于弱酸，其电离方程式为：CH₃COOH⇌CH₃COO^-+H⁺，
故答案为：CH₃COOH⇌CH₃COO^-+H⁺；
（3）C为，含有碳碳双键，可以发生加聚反应，加成反应，与氢气的加成反应属于还原反应，含有羧基，可以发生酯化反应，不能发生水解反应，
故答案为：abc；
（4）B为，与Ag（NH₃）₂OH反应的化学方程式为：，
故答案为：；
（5）由上述分析可知，E的结构简式为：CH₃COOCH=CH₂，
故答案为：CH₃COOCH=CH₂；
（6）C为，具有相同官能团且含有苯环的C的同分异构体有4种，其结构简式分别为、、、，
故答案为：、
（7）G与D发生信息Ⅱ的反应得到光刻胶，则光刻胶的结构简式为：，该反应方程式为：，
故答案为：．