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下列叙述正确的是()A.高温下二氧化硅与碳酸钠反应放出二氧化碳,说明硅酸(H2SiO3)的酸性比碳酸强B.陶瓷、玻璃、水泥容器都能贮存氢氟酸C.石灰抹墙、水泥砌墙的硬化过程原
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下列叙述正确的是( )
A.高温下二氧化硅与碳酸钠反应放出二氧化碳,说明硅酸(H2SiO3)的酸性比碳酸强
B.陶瓷、玻璃、水泥容器都能贮存氢氟酸
C.石灰抹墙、水泥砌墙的硬化过程原理相同
D.高纯度的硅广泛用于制作计算机芯片
A.高温下二氧化硅与碳酸钠反应放出二氧化碳,说明硅酸(H2SiO3)的酸性比碳酸强
B.陶瓷、玻璃、水泥容器都能贮存氢氟酸
C.石灰抹墙、水泥砌墙的硬化过程原理相同
D.高纯度的硅广泛用于制作计算机芯片
▼优质解答
答案和解析
A.高温条件下,虽然二氧化硅和碳酸钠反应生成二氧化碳,但该反应条件是高温而不是常温,所以不能据此判断酸性强弱,故A错误;
B.玻璃中含有二氧化硅,二氧化硅和HF反应生成SiF4,所以不能用玻璃容器盛放HF,故B错误;
C.水泥砌墙是利用水泥的凝固性,石灰抹墙硬化发生的反应为Ca(OH)2+CO2=CaCO3↓+H2O,所以原理不同,故C错误;
D.Si位于金属元素和非金属元素分界线处,有金属和非金属的性质,所以硅属于半导体材料,高纯度的硅广泛用于制作计算机芯片,故D正确;
故选D.
B.玻璃中含有二氧化硅,二氧化硅和HF反应生成SiF4,所以不能用玻璃容器盛放HF,故B错误;
C.水泥砌墙是利用水泥的凝固性,石灰抹墙硬化发生的反应为Ca(OH)2+CO2=CaCO3↓+H2O,所以原理不同,故C错误;
D.Si位于金属元素和非金属元素分界线处,有金属和非金属的性质,所以硅属于半导体材料,高纯度的硅广泛用于制作计算机芯片,故D正确;
故选D.
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