氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮

Question

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH ₃ 和SiH ₄ （硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜：
3 SiH ₄ +4NH ₃ Si ₃ N ₄ +12H ₂
（1）以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下：
反应原理：4NH ₄ Cl+Mg ₂ Si 4NH ₃ ↑+SiH ₄ ↑+2MgCl ₂ （△H < 0）

①NH ₄ Cl的化学键类型有____________，SiH ₄ 电子式为_______________。
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是________________________。
③氨气也是重要的工业原料，写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式_______，实验室可利用如图所示装置完成该反应。 

在实验过程中，除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外，还可观察到有白烟生成，白烟的主要成分是_____________。
（2）三硅酸镁（Mg ₂ Si ₃ O ₈ ∙nH ₂ O）难溶于水，在医药上可做抗酸剂。它除了可以中和胃液中多余酸之外，生成的H ₂ SiO ₃ 还可覆盖在有溃疡的胃表面，保护其不再受刺激。三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为_______________________________。将0.184 g三硅酸镁加到50 mL 0.1 mol/L盐酸中，充分反应后，滤去沉淀，以甲基橙为指示剂，用0.1 mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸，消耗NaOH溶液30 mL，则Mg ₂ Si ₃ O ₈ ∙nH ₂ O的n值为_________。（注：Mg ₂ Si ₃ O ₈ 的摩尔质量为260 g/mol）

Answer 1

（14分）（1）①极性键（或共价键）、离子键        ②吸收热量，保证反应在常温下进行（答“制冷”或“降温”均可）③4NH 3 +5O 2 4NO+6H 2 O   NH 4 NO 3 （或：硝酸铵）（2）Mg 2 Si 3 O 8 ∙nH 2 O...