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工业上用“三氯氢硅还原法”,提纯粗硅的工艺流程如图所示:(1)三氯氢硅的制备原理:Si(s)+3HCl(g)⇌SiHCl3(g)+H2(g)△H=-210kJ/mol工业上为了加快SiHCl的生成速率而又不降低硅的转
化学
,还伴随着副反应:Si(s)
制造太阳能电池需要高纯度的硅,工业上制高纯硅常用以下反应实现①Si(s)+3HCl(g)300℃.SiHCl3(g)+H2(g)
②SiHCl3
+H2950℃.Si+3HCl对上述两个反应的下列叙述中,错误的是()A.
化学
是置换反应C.工业上制得高纯
晶体硅是一种重要的非金属材料,制备高纯硅的主要流程如图所示:已知SiHCl3能与H2O强烈反应,生成一种可燃烧的单质气体和两种酸.请回答下列问题:(1)写出制备粗硅的化学方
化学
____.(3)整个制备过程
晶体硅是一种重要的非金属材料,SiHCl3与过量H2在1000~1100℃反应制得纯硅,已知液态SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃.请回答下列问题:用SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热
化学
的烧瓶需要加热,其目的是__
晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅,同时得到一种可燃性气态;②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3(Si+3HCl=SiHCl3+H2)
化学
iHCl3能与水强烈反应,在
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图所示:(1)写出由
化学
l3+H2 高温 . Si+
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
化学
______________
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图:石英砂
化学
高温 粗
由二氧化硅制高纯硅的流程如图,下列判断中错误的是()A.①②③均属于氧化还原反应B.H2和HCl均可循环利用C.SiO2是一种坚硬难熔的固体D.SiHCl3摩尔质量为135.5g
化学
制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:(1)写出由石英砂制取粗硅的化学方程式
化学
纯SiHCl3制备高纯硅的化
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