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共找到 8 与与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3 相关的结果，耗时56 ms
半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如图所示：（部分夹持装置略
化学
水会强烈水解生成H3PO3和
半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如图所
化学
①黄磷与少量Cl
三氯化磷(PCl3)是一种重要的半导体材料掺杂剂。实验室要用黄磷(白磷)
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如图所示。已知：PCl3遇O2会
化学
OCl 3 ， POC
半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如图所示：（部分夹持装置略
化学
会强烈水解生 成 H3PO3
三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（即白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如图所示：（部分夹持装置略去）已知：①黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反
化学
O2会生成POCl3，POC
三氯化磷（PCl3）是一种重要的半导体材料掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如下图所示．已知黄磷与少量Cl2反应生成PCl3，与过量Cl2反应生成PCl5．PCl3
化学
水解生成H3PO3和HCl．
半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）中一种重要的掺杂剂．实验室要用黄磷（白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如下图所示：（部分夹持装置略
化学
成POCl3，POCl3溶于
半导体生产中常需要控制掺杂，以保证控制电阻率，三氯化磷（PCl3）是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷（即白磷）
与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3
，装置如下图所示：（部分夹
化学
成PCl 5 。PCl 3
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