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共找到 1 与出现这样的情况会和镀膜的压力以及氧气量的配比有某种特定关系 相关的结果,耗时134 ms
溅渡SIO2为什么在基片上会有SI的其他氧化物存在通过对基片上的SI的氧化物分析,其si的成分占68%左右,O2占23%左右。
出现这样的情况会和镀膜的压力以及氧气量的配比有某种特定关系
?溅镀
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