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（2013•安徽模拟）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g）△H1=+682.44kJ•mol-1Si（s）（粗硅）+2Cl2（g）═SiCl4（l）△H2=-6 化学

SiCl4（l）+2Mg（s

（2007•广州一模）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/molSi（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H= 化学

4（g）（纯硅）+2Mg（s

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/molSi（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/mol 化学

）（纯硅）+2Mg（s）═2

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：①SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g）△H=+682.44kJ•mol-1，（石英砂）（粗硅）②Si（s）+2Cl2（g）═SiCl4（g）△H=-657.01kJ•mol-1 化学

+2Mg（s）═2MgCl2

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