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2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：①2MoS2＋7O22MoO3＋4SO2②Mo 化学

4＋H2O ③(NH4

2011年，瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼（MoS2）单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势．工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：①2MoS2+7O2高温2MoO3+4SO2 化学

2MoO4+H2O③（NH4

有一种名为辉钼（MoS2）的单分子层材料，非常薄，很容易用在纳米技术上，在制造微型晶体管、发光二极管（LED）、太阳能电池等方面有很大潜力．某学习小组利用辉钼制成的半导体物理

体材料的电阻为______Ω

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