2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：①2MoS2＋7O22MoO3＋4SO2②Mo
2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导
体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理：
①2MoS2＋7O2
2MoO3＋4SO2 ②MoO3＋2NH3·H2O===(NH4)2MoO4＋H2O
③(NH4)2MoO4＋2HCl===H2MoO4↓＋2NH4Cl ④H
2MoO4===MoO3＋H2O
⑤用还原剂将MoO3还原成金属钼。下列说法正确的是
A．MoS2煅烧产生的尾气可直接排到空气中
B．MoO3不溶于氢氧化钠溶液
C．H2MoO4是一种强酸
D．利用H2、CO和Al分别还原等量的MoO3，消耗还原剂的物质的量之比为3∶3∶2
D
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