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2011年，瑞士洛桑联邦工学院物理学家发现用一种辉钼(MoS2)单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势。
工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理
：①2MoS2＋7O22MoO3＋4SO2②Mo
化学
4＋H2O ③(NH4
2011年，瑞士洛桑联邦工学院无理学家发现后用一种辉钼（MoS2）单分子层材料制造半导体，比传统硅材料和富勒烯更有优势．
工业上用辉钼矿冶炼钼的化学原理
：①2MoS2+7O2高温2MoO3+4SO2
化学
2MoO4+H2O③（NH4
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