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某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O2、H2CrO4、Cr（OH）3、H2O、H2O2已知该反应中H2O2只发生如下过程：H2O2→O2（1）该反应中的还原剂是．（2）该反应中，发生还原反应的过程是化学

的方向和数目___．（4）如

某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O2、H2CrO4、Cr（OH）3、H2O、H2O2已知该反应中H2O2只发生如下过程：H2O2→O2①该反应中，发生还原反应的过程是→．②写出该反应的化学方程式化学

mol电子，则产生的气体在标

某一反应体系有反应物和生成物共5种物质:O2,H2CrO4,Cr(OH)3,H2O,H202,已知道该反应中H2O2只发生如下过程:H2O2→O21.该反应中的还原剂是2.该反应中,发生还原反应的过程是→3.写出该反映的化其他

方向和数目;做的方法

某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O2、H2CrO4、Cr（OH）3、H2O、H2O2．已知该反应中H2O2只发生如下过程：H2O2→O2．①该反应中的还原剂是该反应中，发生还原反应的过程是→ 化学

子转移的方向和数目：____

某一反应体系有反应物和生成物共五种物质：O2、H2CrO4、Cr(OH)3、H2O、H2O2.已知该反应中H2O2只发生如下过程：H2O2→O2（1）该反应中的还原剂是.（2）该反应中,发生还原反应的过程是化学

_____.（3）写出该反应

某一反应体系有反应物和生成物共七种物质：O2、KMnO4、MnSO4、H2SO4、H2O、H2O2、K2SO4。已知该反应中H2O2只发生如下过程：H2O2O2。试回答下列问题：(1)该反应中的化学

是___________。

已知电子工业上常用FeCl3溶液来溶解电路板中的铜。某一反应体系有反应物和生成物共三种物质：FeCl3、FeCl2、Fe。完成下列问题：（1）该反应中的还原产物的化学式是，氧化学

应中，发生还原反应的过程是（

400℃时，某密闭容器中有X，Y，Z三种气体，从反应开始到达到平衡时各物质浓度的变化如图甲所示（假定反应向正反应方向进行）．图乙为相应时刻仅改变反应体系中某一条件后正、逆反应化学

的顺序为___（2）若t3时

（1）膦（PH3）是一种无色有剧毒的气体，其还原能力比氨（NH3）强，是一种强还原剂．某反应体系中存在下列物质：Cu、H2SO4、CuSO4、PH3、H3PO4、H2O．回答下列问题：①上述反应体系中化学反化学

液呈弱碱性，该反应可用离子方

在一定条件下,某可逆反应的K值越大,说明平衡体系中生成物所占的比例越大,它的正反应进行的程度越大?是不是说只有反应系数和反应各物质类型一样时才能用他们同一温度的反应常数来比化学

、生成物之前的系数

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