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共找到 1 与氢氧化钾和双氧水混合溶液清洗硅片在单晶硅片清洗过程中 相关的结果，耗时64 ms
氢氧化钾和双氧水混合溶液清洗硅片在单晶硅片清洗过程中
，如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片，则硅片表现正常，不会发生腐蚀；但单独用KOH溶液清洗硅片，就会发生硅片腐蚀
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