早教吧 育儿知识 作业答案 考试题库 百科 知识分享

氢氧化钾和双氧水混合溶液清洗硅片在单晶硅片清洗过程中,如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片,则硅片表现正常,不会发生腐蚀;但单独用KOH溶液清洗硅片,就会发生硅片腐蚀

题目详情
氢氧化钾和双氧水混合溶液清洗硅片
在单晶硅片清洗过程中,如果使用KOH和双氧水均匀混合的溶液清洗硅片,则硅片表现正常,不会发生腐蚀;但单独用KOH溶液清洗硅片,就会发生硅片腐蚀,为什么呢?前者和后者不都是硅片和KOH直接接触的么?
▼优质解答
答案和解析
这个需要你继续研究了,能了解这个问题的时候,你就对单晶硅片整个切片原理了解的非常透彻了,我是卖单晶硅片清洗剂的,所以不会回答你,不过你多去现场做试验,总有一天会推算出这个方程式的