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共找到 1343038 与用焦炭在高温下还原二氧化硅可制得高纯硅B 相关的结果,耗时2127 ms
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图:石英砂
化学
高温 粗
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
化学
______________
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图所示:(1)写出由
化学
l3+H2 高温 . Si+
(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容
化学
时进行反应。SiCl4的物质
(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密闭容
化学
时进行反应。SiCl4的物质
(14分)高纯硅是当今科技的核心材料。工业上,用氢气还原四氯化硅制得高纯硅的反应为SiCl4(g)+2H2(g)Si(s)+4HCl(g)。已知SiCl4可完全水解生成硅酸和盐酸。向容积为1L的密
化学
,分别在T 1 和T 2 温
下列关于常见物质的工业制法的叙述,不正确的是()A.工业制硅:
用焦炭在高温下还原二氧化硅可制得高纯硅B
.工业冶炼铁:需要用到的原料有铁矿石、焦炭、空气和石灰石C.工业
化学
熔炉中高温熔融制得
晶体硅是一种重要非金属材料.制备纯硅的主要步骤如下:①在高温下,用碳还原SiO2制得含碳、脉石(主要成份为SiO2)等杂质的粗硅②将粗硅在高温下与Cl2反应生成SiCl4③将分馏提纯后的SiC
化学
__.步骤③过程中所用H2,
工业上制取高纯硅和四氯化硅的生产流程如下:已知:X、高纯硅、原料B的主要成分都可与Z反应,Y,与X在光照或点燃条件下可反应,Z的焰色呈黄色.(1)原料B的主要成分是(写名称)
化学
水溶液时,阳极材料能否用Cu
纯硅是什么·纯硅是半导体·还是绝缘体(五个硅原子在一起)
其他
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