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SiCl4是生产光纤预制棒的基础原料.通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硼、磷等杂质),粗硅与氧气反应生成四氧化硅(反应湿度450-500℃).以下是实验室制备四氯化硅的装
化学
接反应生成相应的氯化物;c.
下面关于硅的叙述中,正确的是()A.硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质反应B.硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位C.硅的化学性质
其他
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图:石英砂
化学
高温 粗
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
化学
______________
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图所示:(1)写出由
化学
l3+H2 高温 . Si+
水玻璃,水溶胶,硅酸溶胶,硅溶胶,硅胶,硅凝胶,气凝胶,二氧化硅粉末等.希望有人指出以上名称物质各是什么形态,哪些与哪些是不同称呼同一物料.还有各个的物理性质,化学性质及用途等.
化学
下列叙述中,不正确的是()A.硅是一种良好的半导体材料B.二氧化硅是光导纤维的主要原料C.二氧化硅可与水反应制取硅酸D.硅在地壳中的含量居第二位
其他
下列有关硅的叙述中,正确的是()A.硅只有在高温下才能跟氢气起化合反应,单质硅有多种不同的结构B.硅是构成矿物和岩石的主要元素,硅在地壳中的含量在所有的元素中居第一位C
化学
是制造光导纤维的原料
高纯硅是制造计算机电路芯片的主要原料.请回答:(1)地壳中元素的含量仅次于硅元素.(2)工业上用石英(主要成分为SiO2)制备粗硅的反应为:SiO2+2C高温.Si+2R↑,二氧化硅中硅
化学
硅在氧气中燃烧生成二氧化硅,
晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅,同时得到一种可燃性气态;②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3(Si+3HCl=SiHCl3+H2)
化学
iHCl3能与水强烈反应,在
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