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SiCl4是生产光纤预制棒的基础原料．通常在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氧气反应生成四氧化硅（反应湿度450-500℃）．以下是实验室制备四氯化硅的装化学

接反应生成相应的氯化物；c．

单晶硅是信息产业中重要的基础材料，通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁，铝，硼，磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500℃），四氯化硅经提纯后用氢气化学

硼、铝、铁、磷在高温下均能与

单质硅是信息产业中重要的基础材料．通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度为450～500℃），四氯化硅经提纯后用化学

，加热部分装置省略（EFGH

高温下，粗硅与纯净的氯气反应，生成四氯化硅（SiCl4），再用氢气还原四氯化硅得到高纯硅．某实验小组在实验室制备并收集四氯化硅，装置示意图如下：查阅资料四氯化硅极易与水化学

哪个装置___（填序号）．②

（2009•浙江）单晶硅是信息产业中重要的基础材料．通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁、铝、硼、磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450～500℃），四氯化硅化学

硅遇水极易水解；②硼、铝、铁

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