单晶硅是信息产业中重要的基础材料，通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁，铝，硼，磷等杂质），粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500℃），四氯化硅经提纯后用氢气

Question

单晶硅是信息产业中重要的基础材料，通常用炭在高温下还原二氧化硅制得粗硅（含铁，铝，硼，磷等杂质）
，粗硅与氯气反应生成四氯化硅（反应温度450-500℃），四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅，以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图．

相关信息如下：
①四氯化硅遇水极易水解；
②硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物；
③有关物质的物理常数见下表：

物质	SiCl4	BCl3	AlCl3	FeCl3	PCl5
沸点/℃	57.7	12.8	-	315	-
熔点/℃	-70.0	-107.2	-	-	-
升华温度/℃	-	-	180	300	162

请回答下列问题：
（1）写出装置A中发生反应的离子方程式

MnO₂+4H⁺+2Cl^-(△.)/()Mn²⁺+Cl₂↑+2H₂O

MnO₂+4H⁺+2Cl^-(△.)/()Mn²⁺+Cl₂↑+2H₂O

．
（2）装置A中g管的作用是______，装置B中的试剂是______，装置C中的试剂是______，装置E中h瓶需要冷却的理由是______．
（3）干燥管F的作用______．

Answer 1

由制备四氯化硅的实验流程可知，A中发生二氧化锰与浓盐酸的反应生成氯气，B中饱和实验水除去HCl，C装置中浓硫酸干燥氯气，D中发生Si与氯气的反应生成四氯化硅，由信息可知，四氯化硅的沸点低，则E装置冷却可收集四氯...