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近年来研制的NF3气体可用作氟化氢—氟化氚高能化学激光器的氟源，也可作为火箭推进剂，NF3可用NH3与氟气制取，化学方程式为：4NH3＋3F2=NF3＋3NH4F，下列说法中不正确的是()A．NF3 化学

C．NF3的氧化性大于F2

（2013•海淀区二模）氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加化学

以硅化镁为原料制备硅烷的反应

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜化学

条件

1当氨气与氧气一起通入灼热的铂丝网时,在导出的产物中,不可能出现的物质是：ANH4NO3BH2OCN2DNO22.把标准状况的NO2、N2、NH3组成的混合气体10L,通过稀HNO3溶液,溶液的质量增加了12.5g,气体的化学

成分的体积请把理由写出来,

有机物A、B、C互为同分异构体，分子式为C5H8O2，有关的转化关系如下图所示：已知：①A的碳链无支链，且1molA能与4molAg（NH3）2OH完全反应；②B为五元环酯．③回答问题（1）B、H结构简式化学

）E不能发生的反应有___①

结合所学知识，完成下列问题：(1)舞台上的幕布与布景多是用浓氯化铵溶液浸过制成的，可以防火。其原因是。(2)已知NH3分子结合H+的能力比结合Ag+的能力强。要使[Ag(NH3)2 化学

剂名称是__________

关于溶解度的问题.感激不尽!如果一种气体(如HCl,NH3,SO2)能与水反应,那么它与水反应的量算不算在它的溶解度里面的?换句话说,就是气体的溶解度包括不包括那种气体与水反应的量的?比如氨气化学

说明为什么,感激不尽!

[化学—物质结构与性质]（1）依据第2周期元素第一电离能的变化规律，参照下图B、F元素的位置，用小黑点标出C、N、O三种元素的相对位置。（2）NF3可由NH3和F2在Cu催化剂存在下反化学

述化学方程式中的5种物质所属

（6分）（1）已知拆开1molH－H键，lmolN－H键，1mol键分别需要的能是436kJ、39lkJ、946kJ，则N2与H2反应生成NH3的热化学方程式为。（2）科学家盖斯曾提出：“不化学

不管化学过程是一步完成或分几

亚硝酸钠是实验室常用的试剂，实验室一般用亚硝酸钠溶液与氯化铵溶液反应来制取N2。N2的化学性质十分稳定，但在一定条件下能与H2部分化合生成NH3。下图为制取少量NH3的装化学

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