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（2009•泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH4难溶于水，与稀硫酸不反化学

4+2MgCl2+4NH3方

（2014•镇江二模）下列有关说法正确的是（）A．室温下，Ag+（aq）+Cl-（aq）═AgCl（s）反应可自发进行，则该反应的△H＜0B．高温下，工业上用纯碱和石英砂制玻璃，说明硅酸的酸性强化学

高温下，用金属钠与氯化钾可以

（2014•十堰）硅是信息技术的关键材料，高温下氢气与四氯化硅（SiCl4）反应可制得高纯度的硅，该反应的化学反应方程式为：2H2+SiCl4高温.Si+4X，下列说法正确的是（）A．X的化学式化学

子构成D．四氯化硅中硅元素和

（2010•益阳）芯片是计算机的核心部件，它是由高纯硅制成的，下面是生产单质硅过程中的主要反应：①SiO2+2c高温.Si+2CO↑②Si+2Cl2点燃.SiCl4③siCl4+2H2△.Si+4HCl上述反应③的基本反化学

化合反应B．分解反应C．置换

（2014•株洲）晶体硅在电子工业中有广泛的应用．工业上生产高纯硅的流程如下：请回答下列问题：（1）二氧化硅与焦炭反应的另一种产物是一氧化碳．该反应的化学方程式为SiO2+2C高温. 化学

变化（填“物理”或“化学”）

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅；②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3（Si+3HCl═SiHCl3+H2）③SiHCl3与过量的H2在1000℃ 化学

应，在空气中易自燃．请回答：

下列关于常见物质的工业制法的叙述，不正确的是（）A.工业制硅：用焦炭在高温下还原二氧化硅可制得高纯硅B.工业冶炼铁：需要用到的原料有铁矿石、焦炭、空气和石灰石C.工业化学

熔炉中高温熔融制得

氮化硅（Si3N4）是一种优良的高温结构陶瓷，在工业生产和科技领域中有重要用途．Ⅰ．工业上有多种方法来制备氮化硅，常见的方法：方法一直接氮化法：在1300～1400℃时，高纯粉状硅化学

Si+2N2 1300-14

晶体硅是一种重要的非金属材料，制备纯硅的主要步骤如下：①高温下用过量的碳还原二氧化硅制得粗硅，同时得到一种可燃性气态；②粗硅与干燥的HCl气体反应制得SiHCl3（Si+3HCl=SiHCl3+H2）化学

iHCl3能与水强烈反应，在

高纯硅是制造计算机电路芯片的主要原料．请回答：（1）地壳中元素的含量仅次于硅元素．（2）工业上用石英（主要成分为SiO2）制备粗硅的反应为：SiO2+2C高温.Si+2R↑，二氧化硅中硅化学

硅在氧气中燃烧生成二氧化硅，

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