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硅或其氧化物为何能与氢氟酸反应（从微观解释）如题。老师说这是因为SiF4比较稳定且为气体，脱离反应体系，反应朝正方向进行。微观中，我疑问的是，为什么硅原子可以和氟离子结合，其他

，角度有关呢？同样地，为什么

高中化学资料上有这样一个方程式：Si+4HF=SiF4+2H2↑还有这样的叙述：硅实际上不溶于单独的硝酸及氢氟酸,HNO3有强氧化作用,HF提供F-是+4价硅的良好配体,使用HNO3和HF的混合物可以达到溶解单质化学

SiF4是盐吗盐的定义是什么化学

SiF4是化合物中的盐吗政治

下列化学反应中，水既不是氧化剂又不是还原剂的是（）A.2Na2O2+2H2O═4NaOH+O2↑B.2F2+2H2O═4HF+O2C.2Na+2H2O═2NaOH+H2↑D.NaH+H2O═NaOH+H2↑ 化学

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的化学

求此反应自发进行的温度条件。

将不可再生的天然气、石油、煤等化石燃料转化利用、变废为宝已成为当务之急．（1）根据键能数据估算CH4+4F2=CF4+4HF的反应热△H=．化学键C-HC-FH-FF-F键能/（kJ•mol-1）化学

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将不可再生的天然气、石油、煤等化石燃料转化利用、提高利用率已成为当务之急．（1）根据部分键能数据和CH4（g）+4F2（g）=CF4（g）+4HF（g）的反应热△H为1940kJ•mol-1，计算H-F键的键能化学

-F H-F F

（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度其他

______；（2）对反应2

下列反应中，水作氧化剂的是（）A.SO3+H2O→H2SO4B.2K+2H2O→2KOH+H2↑C.2F2+2H2O→4HF+O2D.2Na2O2+2H2O→4NaOH+O2↑ 化学

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