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能正确表示下列反应的离子方程式是（）A．Na2O2与H2O反应：Na2O2+H2O=2Na++2OH-+O2↑B．硫酸铝与过量氨水反应：Al3++4NH3•H2O=AlO2-+4NH4++2H2OC．NO2溶于水：3NO2+H2O=2H++2NO3-+NOD．用FeCl 化学

Cl3溶液腐蚀铜线路板：Cu

完成下列反应的化学方程式或离子方程式：（1）高温下铁和水蒸气反应（2）硫酸铝与氨水反应（3）Fe跟FeCl3溶液反应．化学

下列离子方程式中正确的是（）A．钠和冷水反应Na+2H2O═Na++2OH-+H2↑B．Fe片浸泡在FeCl3溶液中：Fe3++Fe═2Fe2+C．NaHSO4溶液中加BaCl2溶液：SO42-+Ba2+═BaSO4↓D．氯化铝溶液中加入过量的氨水A 化学

+4NH3•H2O═AlO2

下列反应中，反应后固体质量一定减少的是（）A.铝与V2O5发生铝热反应B.镁粉投入到FeCl3溶液中C.碳粉与CuO混合物在试管中加热D.水蒸气通入足量Na2O2粉末化学

下列化学反应的离子方程式书写正确的是（）A．氯化铝溶液与过量氨水反应：3OH-+Al3+═Al（OH）3↓B．铜溶于稀硝酸：3Cu+8H++2NO3-═3Cu2++2NO↑+4H2OC．FeCl3溶液与Cu粉反应：Cu+Fe3+═Cu2++Fe2+D．化学

通入过量CO2：Ca2++2

下列离子方程式书写不正确的是（）A．铜与稀硝酸反应：Cu+2H+=Cu2++H2↑B．FeCl3溶液中加入铁粉：2Fe3++Fe=3Fe2+C．常温下氯气与烧碱溶液反应：Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+H2O 化学

+H 2 O D．C

写出下列反应的离子方程式：大理石与盐酸反应．铜与稀硝酸反应．铝与氢氧化钠溶液反应．印刷电路板是由高分子材料和铜箔复合而成，可用FeCl3溶液作“腐蚀剂”刻制印刷化学

工业上常用FeCl3溶液与铜反应制作印刷电路板.该反应的化学方程式为:2FeCl3+Cu=2FeCl2+CuCl2.取上述反应后溶液10mL进行分析，测得其中c（Fe3+）为1mol•L-1.向其中加入足量的硝酸银溶液，过滤、干化学

10mL溶液中c（Cu2+）

下列离子方程式书写正确的是（）A．NH4HCO3溶液与足量的NaOH溶液混合加热：NH4++HCO3-+2OH-NH3↑+CO32-+2H2OB．明矾溶液中加入氢氧化钡：Ba2++SO42-=BaSO4↓C．向CuCl2、FeCl3混合溶液中加入少量铁粉化学

Fe=Fe2++CuD．氢氧

（1）FeCl3与H2S反应的离子方程式为；（2）硫酸铝溶液与过量氨水反应的离子方程式为；（3）为探究NH4HCO3和NaOH的反应，设计实验方案如下：含0.1molNH4HCO3的溶液中加入0.1molNaOH，反应完化学

则NH4HCO3与NaOH的

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