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共找到 30 与HCl↑请回答 相关的结果,耗时123 ms
电子工业中,可用FeCl3-HCl溶液作为印刷电路铜板蚀刻液.某探究小组设计如下线路处理废液和资源回收:请回答:(1)FeCl3-HCl溶液蚀刻铜板后的废液中含有的金属阳离子是.(2)FeCl3蚀刻
化学
入H2O2溶液的目的是___
乙烯用途广泛,工业上可通过下列流程合成二甘醇及其衍生物.已知:R-OH+SOCl2=RCl+SO2↑+
HCl↑请回答
:(1)写出有关物质的结构简式:AD;(2)指出反应类型:①②;(3)写出下列
化学
甘醇又名(二)乙二醇醚,根据
除去Cu粉中的CuO为什么要滴加稀HCl或H2SO4?镁为什么不和AlCl3反应?请速回答!
化学
为了证明在实验室制备Cl2的过程中会有水蒸气和HCl挥发出来,甲同学设计了如下图所示的实验装置,按要求回答问题.(1)请根据甲同学的意图,连接相应的装置,接口顺序:b接,
化学
_.(3)装置③中CCl4的
为了证明在实验室制备Cl2的过程中会有水蒸气和HCl挥发出来,甲同学设计了如下图所示的实验装置,按要求回答问题.(1)请根据甲同学的意图,连接相应的装置,接口顺序:b接,
化学
_.(3)装置③中CCl4的
(14分)为了证明在实验室制备Cl2的过程中会有水蒸气和HCl挥发出来,甲同学设计了如下图所示的实验装置,按要求回答问题。(1)请根据甲同学的意图,连接相应的装置,接口的顺序:
化学
________。(3)装置
已知重铬酸钾和浓盐酸在常温下反应可生成氯气,试回答下列问题:(1)请完成并配平如下化学方程式,再用双线桥表明电子转移的方向和数目:K2Cr2O7+HCl(浓)═KCl+CrCl3+Cl2↑+(2)浓
化学
电子,则氧化剂与还原剂的物质
根据下列实验装置图,请回答下列相关问题:(1)装置A中所发生反应的化学方程式为;(2)装置B的作用是吸收装置A中挥发出来的HCl;装置C中浓硫酸的作用是;(3)反应一段时间后
化学
的化学方程式 ___;(4)
物质A~D为CH3COOH、NaOH、HCl、NH3•H2O中的各一种,常温下将各种物质的溶液从1mL稀释到1000mL,pH的变化关系如图所示,请回答下列问题:(1)根据pH的变化关系,写出物质的化学式:B、C
化学
;(3)将等物质的量的B和D
如图是生成氯化钠反应关系的归纳和整理.请回答下列问题:(1)物质A是常见在碱,写出A的化学式:.(2)写出反应A和稀HCl的化学方程式:.(3)说出NaHCO3在医疗上的一
化学
采取的措施是______.(
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