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化合物M是一种光致抗蚀剂,可用于印刷电路和集成电路工艺中,其合成路线如图:已知:I.+NaOH稀溶液△+H2O(R1、R2为羟基或氯)
II.羟基直接连
化学
碳碳双键的碳原子上的有机物是
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