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共找到 53 与SiF4↑ 相关的结果,耗时4 ms
SiF4能不能拆如题
化学
自然界的矿物、岩石的成因和变化受到许多条件的影响.地壳内每加深1km,压强增大约25000~30000kPa.在地壳内SiO2和HF存在以下平衡:SiO2(s)+4HF(g)⇌SiF4(g)+2H2O(g)△H=-148.9kJ•mol-1
化学
空:(1)在地壳深处容易有_
SiO2+4HF=SiF4+H2O是什么反应?
化学
如何判断间角例如,水的是104.5°V形结构二氧化碳180°直线形NH3分子107°18′三角锥形CH4、CCl4、SiH4、SiF4分子109°28′正四面体形苯的键角120.这要怎么判断?是不是看他是SP几的杂化?还是?当做常
化学
当的举个例子。
硅或其氧化物为何能与氢氟酸反应(从微观解释)如题。老师说这是因为SiF4比较稳定且为气体,脱离反应体系,反应朝正方向进行。微观中,我疑问的是,为什么硅原子可以和氟离子结合,
其他
,角度有关呢?同样地,为什么
高中化学资料上有这样一个方程式:Si+4HF=SiF4+2H2↑还有这样的叙述:硅实际上不溶于单独的硝酸及氢氟酸,HNO3有强氧化作用,HF提供F-是+4价硅的良好配体,使用HNO3和HF的混合物可以达到溶解单质
化学
SiF4是盐吗盐的定义是什么
化学
SiF4是化合物中的盐吗
政治
电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是:SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H(298K)==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化,试求此反应自发进行的
化学
求此反应自发进行的温度条件。
(1)工业清洗硅片上SiO2(s)的反应是:SiO2(s)+4HF(g)═SiF4(g)+2H2O(g)△H(298.15K)=-94.0kJ•mol-1,△S(298.15K)=-75.8J•mol-1•K-1,△H和△S不随温度而变化,试求此反应自发进行的温度
其他
______;(2)对反应2
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