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（1）工业清洗硅片上SiO2（s）的反应是：SiO2（s）+4HF（g）═SiF4（g）+2H2O（g）△H（298.15K）=-94.0kJ•mol-1，△S（298.15K）=-75.8J•mol-1•K-1，△H和△S不随温度而变化，试求此反应自发进行的温度其他

______；（2）对反应2

SiO2+4HF=SiF4+H2O是什么反应? 化学

电子工业中清冼硅片上的二氧化硅的反应是：SiO2(s)+4HF(g)==SiF4(g)+2H2O(g)其△H（298K）==-94.0kJ·mol-1△S(298K)==-75.8J·mol-1·K-1设△H和△S不随温度变化而变化，试求此反应自发进行的化学

求此反应自发进行的温度条件。

二氧化硅与氢氟酸生成了什么?SiO2+HF=SiF4+H2OSiF4是什么? 化学

下列离子方程式书写正确的是（）A．二氧化硅和氢氟酸反应：SiO2+4H++4F-═SiF4↑+2H2OB．金属铝溶于氢氧化钠溶液：2Al+6OH-═2AlO2-+3H2↑C．钠与水反应：2Na+2H2O═2Na++2OH-+H2↑D．氯气通入冷水化学

ClO-+Cl-+2H+

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