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硅(Si)是太阳能电池和电脑芯片不可缺少的材料.利用石英砂(主要成分为二氧化硅)生产高纯硅的流程图如图(整个制备过程必须达到无水、无氧气).回答下列问题:(1)请写出由纯S
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硅(Si)是太阳能电池和电脑芯片不可缺少的材料.利用石英砂(主要成分为二氧化硅)生产高纯硅的流程图如图(整个制备过程必须达到无水、无氧气).
回答下列问题:
(1)请写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___,该反应的基本反应类型是___.
(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧气.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出化学反应方程式___;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是___.
(3)石英砂的主要成分是二氧化硅.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料----光导纤维.二氧化硅和二氧化碳一样,也能与氢氧化钠溶液生成硅酸钠(其水溶液称水玻璃)和水.请写出二氧化硅与氢氧化钠溶液反应的化学方程式___.
(4)以上生产高纯硅的流程中,可循环使用的物质是___.
回答下列问题:
(1)请写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式___,该反应的基本反应类型是___.
(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧气.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出化学反应方程式___;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是___.
(3)石英砂的主要成分是二氧化硅.高纯度的二氧化硅可用于制造高性能通讯材料----光导纤维.二氧化硅和二氧化碳一样,也能与氢氧化钠溶液生成硅酸钠(其水溶液称水玻璃)和水.请写出二氧化硅与氢氧化钠溶液反应的化学方程式___.
(4)以上生产高纯硅的流程中,可循环使用的物质是___.
▼优质解答
答案和解析
(1)由于是氢气和SiHCl3在1084℃制备高纯硅,根据质量守恒定律可得,生成的另外的物质为HCl,则对应的纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为SiHCl3+H2
Si+3HCl(温度以题干为准,不宜写为高温等,因为不同温度可能产物不同),为化合物和单质生成新的化合物和新的单质,数据置换反应.
(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧气.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,先假设未知物质为X,得到对应的除X之外已经前后相等的化学反应方程式为 SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+X,可以推断X为H2;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,由于氢气具有可燃性,混入氧气时,氢气和氧气反应可能导致爆炸(是可能而非一定,属于爆炸极限的问题).
(3)二氧化硅和二氧化碳一样,也能与氢氧化钠溶液生成硅酸钠(其水溶液称水玻璃)和水.也就是说二氧化硅和氢氧化钠反应生成硅酸钠和水,对应的化学方程式为SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O.
(4)以上生产高纯硅的流程中,由于开始用到HCl,后来生成了HCl,所以可循环使用的物质是HCl.
故答案为:
(1)SiHCl3+H2
Si+3HCl; 置换反应.
(2)SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+H2; 爆炸.
(3)SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O.
(4)HCl.
(1)由于是氢气和SiHCl3在1084℃制备高纯硅,根据质量守恒定律可得,生成的另外的物质为HCl,则对应的纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式为SiHCl3+H2
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(2)整个制备过程必须严格控制无水无氧气.SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,先假设未知物质为X,得到对应的除X之外已经前后相等的化学反应方程式为 SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+X,可以推断X为H2;H2还原SiHCl3过程中若混入O2,由于氢气具有可燃性,混入氧气时,氢气和氧气反应可能导致爆炸(是可能而非一定,属于爆炸极限的问题).
(3)二氧化硅和二氧化碳一样,也能与氢氧化钠溶液生成硅酸钠(其水溶液称水玻璃)和水.也就是说二氧化硅和氢氧化钠反应生成硅酸钠和水,对应的化学方程式为SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O.
(4)以上生产高纯硅的流程中,由于开始用到HCl,后来生成了HCl,所以可循环使用的物质是HCl.
故答案为:
(1)SiHCl3+H2
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(2)SiHCl3+3H2O=H2SiO3+3HCl+H2; 爆炸.
(3)SiO2+2NaOH=Na2SiO3+H2O.
(4)HCl.
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