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(2014•松江区三模)已知:请根据下图回答(1)E中含有的官能团的名称是;③的反应类型是,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为:CH3CHO+2Cu(OH)2△CH3COOH+Cu2O↓+2H2OCH3CHO+2Cu(O
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(2014•松江区三模)已知:
请根据下图回答
(1)E中含有的官能团的名称是______;③的反应类型是______,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为:
(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2):n(H2O)=2:1.则B的分子式为______,F的分子式为______.
(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为:______.
(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有______种结构,写出其中任意一种同分异构体的结构简式______.
CH3COOH+Cu2O↓+2H2O
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CH3COOH+Cu2O↓+2H2O
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请根据下图回答
(1)E中含有的官能团的名称是______;③的反应类型是______,C跟新制的氢氧化铜反应的化学方程式为:
CH3CHO+2Cu(OH)2
CH3COOH+Cu2O↓+2H2O
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CH3CHO+2Cu(OH)2
CH3COOH+Cu2O↓+2H2O
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(2)已知B的相对分子质量为162,其燃烧产物中n(CO2):n(H2O)=2:1.则B的分子式为______,F的分子式为______.
(3)在电脑芯片生产领域,高分子光阻剂是光刻蚀0.11μm线宽芯片的关键技术.F是这种高分子光阻剂生产中的主要原料.F具有如下特点:①能跟FeCl3溶液发生显色反应;②能发生加聚反应;③芳环上的一氯代物只有两种.F在一定条件下发生加聚反应的化学方程式为:______.
(4)化合物G是F的同分异构体,它属于芳香族化合物,能发生银镜反应.G可能有______种结构,写出其中任意一种同分异构体的结构简式______.
CH3CHO+2Cu(OH)2
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▼优质解答
答案和解析
(1)A在氢氧化钠水溶液、加热条件下发生水解反应C,根据A的结构中含有酯基、-Br,结合反应信息一个碳原子上连有两个羟基不稳定,转化为C=O,结合转化关系可推知C为CH3CHO,C与新制氢氧化铜反应生成E,故E为CH3COOH...
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