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Ⅱ.砷化镓为第三代半导体材料,(1)砷化镓可由(CH3)3Ga和AsH3在700℃下反应制得,反应的化学方程式为.(2)比较二者的第一电离能:AsGa(填“<”、“>”或“=”);(3)As

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Ⅱ.砷化镓为第三代半导体材料,
(1)砷化镓可由(CH33Ga和AsH3在700℃下反应制得,反应的化学方程式为___.   
(2)比较二者的第一电离能:As___Ga(填“<”、“>”或“=”);
(3)AsH3空间构型为___.
已知(CH33Ga为非极性分子,则其中镓原子的杂化方式是___.
▼优质解答
答案和解析
(1)反应物(CH33Ga和AsH3,生成为GaAs,根据质量守恒可知还应有CH4,反应的化学方程式为:((CH33Ga+AsH3
 700℃ 
.
 
3CH4+GaAs;
故答案为:(CH33Ga+AsH3
 700℃ 
.
 
3CH4+GaAs;
(2)同一周期元素中,元素的第一电离能随着原子序数的增大而呈增大趋势,但第VA族元素第一电离能大于相邻元素,Ga属于第IIIA族、As属于第VA族,所以As的第一电离能比Ga的大;
故答案为:>;
(3)AsH3分子中As的价层电子对数=3+
1
2
(5-3×1)=4,含有3个δ键和1个孤电子对,为三角锥形,(CH33Ga中Ga形成3个δ键,没有孤电子对,为sp2杂化;
故答案为:三角锥;sp2