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在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程简述如下:I:向废液中投入过量铁屑,充分反应后分离出固体和滤液:II:向滤液中加入一定量石灰水,调节溶液pH,同
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在FeCl3溶液蚀刻铜箔制造电路板的工艺中,废液处理和资源回收的过程简述如下:
I:向废液中投入过量铁屑,充分反应后分离出固体和滤液:
II:向滤液中加入一定量石灰水,调节溶液pH,同时鼓入足量的空气.
己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38
回答下列问题:
(1)FeCl3水解反应的离子方程式为______;
(2)过程I 加入铁屑的主要作用是______,分离得到固体的主要成分是______;
(3)过程II中发生反应的化学方程式为______、______;
(4)过程II中调节溶液的pH为5,金属离子浓度为______.
I:向废液中投入过量铁屑,充分反应后分离出固体和滤液:
II:向滤液中加入一定量石灰水,调节溶液pH,同时鼓入足量的空气.
己知:Ksp[Fe(OH)3]=4.0×10-38
回答下列问题:
(1)FeCl3水解反应的离子方程式为______;
(2)过程I 加入铁屑的主要作用是______,分离得到固体的主要成分是______;
(3)过程II中发生反应的化学方程式为______、______;
(4)过程II中调节溶液的pH为5,金属离子浓度为______.
▼优质解答
答案和解析
(1)Fe3+易水解,水解生成H+,水解的离子方程式为Fe3++3H2O⇌Fe(OH)3+3H+,故答案为:Fe3++3H2O⇌Fe(OH)3+3H+;
(2)向废液中投入过量铁屑,铁会和三氯化铁溶液反应生成氯化亚铁,和氯化铜反应生成铜和氯化亚铁,所以加入铁粉是为了得到铜,过滤得到固体是过量的铁和铜,用盐酸溶解铁反应,铜不反应过滤得到铜,
故答案为:回收铜;Cu和Fe;
(3)滤液成分为氯化亚铁溶液,加入石灰水反应生成氢氧化亚铁沉淀,在空气中迅速氧化为氢氧化铁;反应的化学方程式为:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3,
故答案为:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2 、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3;
(4)过程Ⅱ中调节溶液的pH为5,常温下溶液中氢氧根离子浓度为10-9mol/L,依据溶度积常数计算铁离子浓度,Fe(OH)3(s)⇌Fe3++3OH-;Ksp=c(Fe3+)×c3(OH-),c(Fe3+)=
=4×10-11mol/L;
故答案为:4×10-11mol/L.
(2)向废液中投入过量铁屑,铁会和三氯化铁溶液反应生成氯化亚铁,和氯化铜反应生成铜和氯化亚铁,所以加入铁粉是为了得到铜,过滤得到固体是过量的铁和铜,用盐酸溶解铁反应,铜不反应过滤得到铜,
故答案为:回收铜;Cu和Fe;
(3)滤液成分为氯化亚铁溶液,加入石灰水反应生成氢氧化亚铁沉淀,在空气中迅速氧化为氢氧化铁;反应的化学方程式为:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3,
故答案为:FeCl2+Ca(OH)2=Fe(OH)2↓+CaCl2 、4Fe(OH)2+O2+2H2O=4Fe(OH)3;
(4)过程Ⅱ中调节溶液的pH为5,常温下溶液中氢氧根离子浓度为10-9mol/L,依据溶度积常数计算铁离子浓度,Fe(OH)3(s)⇌Fe3++3OH-;Ksp=c(Fe3+)×c3(OH-),c(Fe3+)=
4.0×10−38 |
(10−9)3 |
故答案为:4×10-11mol/L.
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