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共找到 23 与上下表面为导体 相关的结果,耗时306 ms
下列有关静电现象说法正确的是()A.野外高压输电的三条输电线上方设置两条导线,这两条导线不能与大地相连接B.高压设备中导体表面应该尽量光滑,是为了避免电能的损失C.一
其他
是为了防止尖端放电
P1和P2是材料相同、上下表面为正方形的长方体导体,P1的上下表面积大于P2的上下表面积,将P1和P2按图中所示接到电源上,闭合开关后,下列说法正确的是()A.若P1和P2的体积相同,则
物理
等于P2的电功率C. 若P
如图所示.将截面厚度为h、宽度为d的通电金属导体放入磁场,当磁场方向与电流方向垂直时.在导体上下表面会产生电势差,这种现象称为霍尔效应.下列说法正确的是()A.上表面
物理
增大d时,上下表面的电势差减
导体接地后,以下说法正确的是1导体上的电荷为02导体表面上的场强为03导体的电势为04若为空腔型导体,则外表面上无电荷分布
物理
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮
化学
为原料制备硅烷的反应和工业流
1.设想有一高位H,上下底面积为S的长方体浸没在rou水的液体中,该长方体上表面在液体中的深度为h1下表面在液体的深度为h2,该长方体上、下表面受到液体的压强可用公式P=rough来计算,推导出
物理
0℃,比热容为400J/(K
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH3和SiH4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜
化学
条件
圆台体积公式推导中有一步没懂.答案说圆台体积公式为v=(1/3)H[S'+√(SS')+S](√为根号,表示开平方.)证明:将上底面积为S',下底面积为S,高为H的园台的母线延长,得一顶点为P的完整的园锥P-S,设
数学
(H+X)S-(1/3)*X
如图所示装置,“×”表示垂直于纸面向里的磁场的磁感线;在弹簧测力计下挂一个重为G的软铁块,软铁块下方有一螺线管,螺线管两端导线与金属导轨ab、cd相连,导体棒ef平放在导轨上,
物理
两个物理现象是: (1)__
静电平衡下的导体的静电荷只能分布在导体的外表面上,为什么呢,要如何理解?
物理
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