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共找到 355 与其制备方 相关的结果,耗时263 ms
硫铁矿主要成分是二硫化亚铁(FeS2)是一种重要的化工原料,常用来制备铁、硫酸和氯化铁,其工业流程示意图如图.资料Fe+2FeCl3=3FeCl2(1)Ⅱ中反应的化学方程式是.Ⅲ中反应
化学
化合价有___,如图出现的含
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图所示:(1)写出由
化学
l3+H2 高温 . Si+
硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:
化学
______________
硅单质及其化合物应用范围很广.请回答下列问题:(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅.三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如图:石英砂
化学
高温 粗
金属铝的制备方法求其化学方程式方程式
化学
磷单质及其化合物在工业上有广泛应用.磷最重要的矿物资源是磷灰石,磷灰石主要有氟磷灰石和羟基磷灰石.氟磷灰石在高温下制备白磷的化学方程式为:4Ca5(P04)3F+21Si02+30C═3P4+20CaSi03
化学
相关问题: (1)上述元素中
合成喹啉及其衍生物常用的方法是Skraup合成法,以下是用苯胺、甘油、浓硫酸和硝基苯共热制备喹啉的反应流程.(1)图中A的名称为,C的分子式为(2)II的反应类型为(3)下列关
化学
B.可发生银镜反
还原铁粉是冶金工业的重要原料,利用绿矾制备还原铁粉的工业流程如下:干燥过程主要是为了脱去游离水和结晶水,过程中会有少量FeCO3·nH2O被空气氧化为FeOOH,其化学方程式为
化学
FeCl2是一种常用的还原剂.有关数据如下:实验室可以用多种方法来制备无水FeCl2.回答下列问题:I.按如图1装置用H2还原无水FeCl3制取.(1)用装置A制取H2,其优点是;D中反应的化学方
化学
果温度控制不当,产品中会含单
家用消毒液有效成分是次氯酸钠(NaClO),其制备反应的化学方程式是:Cl2+2NaOH═NaCl+NaClO+H2O.计算7.1g氯气(Cl2)理论上可以制得次氯酸钠的质量.
其他
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