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高锰酸钾[KMnO4]是常用的氧化剂．工业上以软锰矿（主要成分是MnO2）为原料制备高锰酸钾晶体．中间产物为锰酸钾[K2MnO4]．图1是实验室模拟制备的操作流程：相关资料：①物质溶解度物化学

CH3COOK

制备高纯MnCO3固体：已知MnCO3难溶于水、乙醇，潮湿时易被空气氧化，100℃开始分解；Mn(OH)2开始沉淀的pH＝7.7。请补充由MnSO4溶液制备高纯MnCO3的操作步骤[实验中可选用的试剂：Ca(OH)2、其他

①__________

实验室模拟工业制备高纯铁．用惰性电极电解FeSO4溶液制备高纯铁的原理如图所示．下列说法不正确的是（）A.阴极主要发生反应：Fe2++2e-═FeB.向阳极附近滴加KSCN溶液，溶液变红C.电化学

3Fe2+ 电解 . Fe+

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图：石英砂化学

高温粗

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：化学

______________

硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：（1）写出由化学

l3+H2 高温 . Si+

高锰酸钾[KMnO4]是常用的氧化剂．工业上以软锰矿（主要成分是MnO2）为原料制备高锰酸钾晶体．中间产物为锰酸钾[K2MnO4]．下图是实验室模拟制备的操作流程：相关资料：①物质溶解度物化学

CH3COOK

三氧化二锰（Mn2O3）在现代工业上应用广泛，在锂离子电池的制备中有重要的作用．用软锰矿（主要成分为MnO2）和硫锰矿（主要成分为MnS）制备高纯度Mn2O3的工艺流程如图所示．（1）反应① 化学

式）（2）操作X为蒸发浓缩、

氧化镁在医药、建筑等行业应用广泛．硫酸镁还原热解制备高纯氧化镁是一种新的探索．以菱镁矿（主要成分为MgCO3，含少量FeCO3）为原料制备高纯氧化镁的实验流程如下：（1）操作X的名称化学

玻璃棒不断地搅拌，其目的是_

氧化镁在医药、建筑等行业应用广泛．硫酸镁还原热解制备高纯氧化镁是一种新的探索．以菱镁矿（主要成分为MgCO3，含少量FeCO3）为原料制备高纯氧化镁的实验流程如下：（1）MgCO3与稀硫酸化学

配平，X属于常见的化合物）：

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