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硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图：石英砂化学

高温粗

硅单质及其化合物应用范围很广。请回答下列问题：（1）制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如下：化学

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硅单质及其化合物应用范围很广．请回答下列问题：制备硅半导体材料必须先得到高纯硅．三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图所示：（1）写出由化学

l3+H2 高温 . Si+

制造太阳能电池需要高纯度的硅，工业上制高纯硅常用以下反应实现①Si（s）+3HCl（g）300℃.SiHCl3（g）+H2（g）②SiHCl3+H2950℃.Si+3HCl对上述两个反应的下列叙述中，错误的是（）A．化学

是置换反应C．工业上制得高纯

硅单质及其化合物应用范围很广．制备硅半导体材料必须先得到高纯硅，三氯甲硅烷（SiHCl3）还原法是当前制备高纯硅的主要方法，生产过程示意图如图1：（1）第①步制备粗硅的化学方程化学

2反应制备纯硅的装置如图2所

高纯活性氧化锌可用于光催化、光电极、彩色显影等领域．以工业级氧化锌（含Fe2+、Mn2+、Cu2+、Ni2+、Cd2+等）为原料，用硫酸浸出法生产高纯活性氧化锌的工艺流程如下：已知Ksp[Fe（OH）3]=4.0 化学

取的措施有（写两种）：___

高纯碳酸锰在电子工业中有重要的应用，湿法浸出软锰矿（主要成分为MnO2，含少量Fe、Al、Mg等杂质元素）制备高纯碳酸锰的实验过程如下：（1）浸出：浸出时温度控制在90℃～95℃之间，并化学

矿，调节浸出液的pH为3.5

高纯氧化铁性能稳定，无毒、无臭、无味，是食品、药品、化妆品常用着色剂．某实验小组用工业FeCl3粗品（含Ca、Mn、Cu等杂质离子）为原料，以萃取剂Y（甲基异丁基甲酮）萃取法制取高纯化学

⇌HFeCl4请回答下列问题

（2013•无锡）高纯氧化钙是用于电子工业重要的无机化工原料．用硝酸钙溶液制备高纯氧化钙的工艺流程如图：反应池中发生反应的化学方程式为：CO2+2NH3•H2O+Ca（NO3）2═2NH4NO3+CaCO3↓+H2O请化学

__．（2）过滤后所得沉淀表

辣椒索又称为高纯辣椒碱，是辣椒中的主要辛辣成分。高纯辣椒碱因其具有许多特殊的生理活性而成为了药学研究的一个热点。现已被广泛用于治疗风湿性关节炎、跌打损伤、冻伤、戒化学

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