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下列反应均为吸热反应，其中一定不能自发进行的是（）A．(NH4)2CO3(s)＝NH4HCO3(s)+NH3(g)B．2N2O5(g)＝4NO2(g)＋O2(g)C．MgCO3(s)＝MgO(s)＋CO2(g)D．2CO(g)＝2C(s)＋O2(g) 化学

O 2 (g) D．2CO

用盖斯定律计算化学反应热,正负号怎么判断比如,Fe2O3(S)+3/2C(S)==3/2CO2(g)+2Fe(s)△H=+234.1KJ/molC(s)+O2(g)==CO2(g)△H=-393.5KJ/mol求2Fe(s)+3/2O2(g)==Fe2O3的△H 化学

==Fe2O3 的△H

（2007•广州一模）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/molSi（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H= 化学

4（g）（纯硅）+2Mg（s

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g），△H=682.44kJ/molSi（s）（粗硅）+2Cl2（s）═SiCl4（g），△H=-657.01kJ/mol 化学

）（纯硅）+2Mg（s）═2

在一次射击练习中，甲、乙两人前5次射击的成绩分别为（单位：环）甲：10810107；乙：7109910.则这次练习中，甲、乙两人方差的大小关系是（）A.S甲2＞S乙2B.S甲2＜S乙2C.S甲2 数学

算一个上底是acm，下底是bcm，高是3cm的梯形面积，应该使用（）公式．A．S=abB．S=3a÷2C．S=3（a+b）÷2D．S=ab÷2 其他

（2013•安徽模拟）半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅SiO2（s）（石英砂）+2C（s）═Si（s）（粗硅）+2CO（g）△H1=+682.44kJ•mol-1Si（s）（粗硅）+2Cl2（g）═SiCl4（l）△H2=-6 化学

SiCl4（l）+2Mg（s

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅：①SiO2（s）+2C（s）═Si（s）+2CO（g）△H=+682.44kJ•mol-1，（石英砂）（粗硅）②Si（s）+2Cl2（g）═SiCl4（g）△H=-657.01kJ•mol-1 化学

+2Mg（s）═2MgCl2

高炉炼铁是冶炼铁的主要方法，发生的主要反应为：Fe2O3（s）+3CO（g）⇌2Fe（s）+3CO2（g）△H=akJmol-1（1）已知：①Fe2O3（s）+3C（石墨）=2Fe（s）+3CO（g）△H1=+489.0kJmol-1②C（石墨）+CO2（g）=2C 化学

CO（g）△H2=+172.

金属锡的冶炼常用焦炭作还原剂：SnO2（s）+2C（s）═Sn（s）+2CO（g）↑，反应过程中能量的变化如图所示．下列有关该反应的△H、△S的说法中正确的是（）A 化学

C、△H＜0，△S＞

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