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下列结论错误的是（）①微粒半径：K＋>Al3＋>S2－>Cl－②氢化物的稳定性：HF>HCl>H2S>PH3>SiH4③离子的还原性：S2－>Cl－>Br－>I－④氧化性：Cl2>S>Se>Te⑤酸性：H2SO4 化学

N>P>Si⑦金属性：Be<

（2009•泰州模拟）高纯超净特种气体主要用于制造半导体器件、化合物半导体、激光器、光导纤维、太阳能电池等．超纯硅化氢制备方法如下：（已知：常温下SiH4难溶于水，与稀硫酸不反化学

4+2MgCl2+4NH3方

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化学

为原料制备硅烷的反应和工业流

有一类组成最简单的有机硅化物叫硅烷，它的分子组成与烷烃相似，下列说法中错误的是A．硅烷的分子通式可表示为SinH2n+2B．甲硅烷(SiH4)燃烧生成SiO2和H2OC．甲硅烷的沸点比化学

有一类组成最简单的有机硅化合物叫硅烷，它的分子组成和烷烃相似．下列有关说法错误的是（）A．硅烷的分子通式可表示为SinH2n+2B．甲硅烷燃烧生成二氧化硅和水C．甲硅烷（SiH4）的化学

有一类组成最简单的有机硅化合物叫硅烷，它的分子组成和烷烃相似.下列有关说法错误的是（）A.硅烷的分子通式可表示为SinH2n+2B.甲硅烷燃烧生成二氧化硅和水C.甲硅烷（SiH4）的密度化学

有一类组成最简单的有机硅化物叫硅烷，其组成与烷烃相似．下列说法错误的是（）A．硅烷的分子通式可表示为SinH2n+2B．甲硅烷燃烧生成二氧化硅和水C．甲硅烷（SiH4）的密度小于甲烷D 化学

有一类有机硅化合物中只含有硅元素和氢元素，叫硅烷，它们的分子组成与烷烃相似，其中有一种结构最简单的硅烷叫甲硅烷（SiH4），则有关描述不正确的是（）A．硅烷的分子通式可其他

和H2O

（2013•海淀区二模）氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加化学

以硅化镁为原料制备硅烷的反应

氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．为生成氮化硅膜，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜化学

条件

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