早教吧
育儿知识
作业答案
考试题库
百科
知识分享
创建时间
资源类别
相关度排序
共找到 3 与为生成氮化硅膜 相关的结果，耗时28 ms
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业。
为生成氮化硅膜
，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮
化学
为原料制备硅烷的反应和工业流
（2013•海淀区二模）氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．
为生成氮化硅膜
，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加
化学
以硅化镁为原料制备硅烷的反应
氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点，故氮化硅膜可用于半导体工业．
为生成氮化硅膜
，可以用NH3和SiH4（硅烷）在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜
化学
条件
1
>
热门搜索：
